實施適當?shù)娘L險管理過程.一般情況下，在產(chǎn)品研發(fā)的重要階段(或里程碑)，風險管理是降低風險、提高管理效率的有效方法.如在產(chǎn)品需求分析階段，進行系統(tǒng)級技術風險管理;在產(chǎn)品概念設計階段，進行子系統(tǒng)級技術風險管理;在產(chǎn)品詳細設計階段，進行零部件級技術風險管理;在產(chǎn)品工藝設計階段，進行工藝級技術風險管理;在產(chǎn)品制造階段，進行制造級技術風險管理等.產(chǎn)品研發(fā)技術風險管理過程由系統(tǒng)級技術風險管理、子系統(tǒng)級技術風險管理、零部件級技術風險管理等層次組成，從高層到底層，上一層的技術風險如不加以控制，一般會將風險傳遞到下一層次，同時下一層次的技術風險控制也會對上一層次的技術風險產(chǎn)生影響.隨著產(chǎn)品研發(fā)過程的推進，技術風險管理的范圍不斷擴大，深度不斷增加.
4應用案例
現(xiàn)以國家“八六三”重大專項“100nm分辨率步進掃描投影光刻機”研制為例，采用上述復雜產(chǎn)品研發(fā)技術風險管理體系結構，研究分析復雜產(chǎn)品研發(fā)的技術風險，為風險控制提供決策依據(jù).
光刻設備是傳送電路圖案至晶片表面的裝備，是涉及光學、機械、控制、測量等各領域交叉結合的產(chǎn)品.而100nm步進掃描投影光刻機各個環(huán)節(jié)的精度幾乎全部是該領域的極限難題，同時，生產(chǎn)這種高精度產(chǎn)品需要考慮在較低精度等級時不需要考慮的許多因素，這使得機器的復雜性大為增加，對可靠性帶來極大的負面影響.
光刻設備由整機框架、控制系統(tǒng)、照明投影系統(tǒng)、掩模臺和工作臺系統(tǒng)、硅片傳輸系統(tǒng)、掩模片傳輸系統(tǒng)、調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、對準系統(tǒng)、環(huán)境控制系統(tǒng)、檢測系等組成.光刻設備系統(tǒng)不僅子系統(tǒng)多，結構組成復雜，而且功能多，性能指標要求高.光刻設備有六大功能：數(shù)據(jù)管理功能，流片功能，測試分析與校準功能，維修維護功能，環(huán)境保證功能和狀態(tài)改變功能.這些功能又可分解為許多子功能.
高精度光刻設備性能要求很高，對各個子系統(tǒng)的要求也很高.設備子系統(tǒng)與子系統(tǒng)之間、子系統(tǒng)與部件之間或部件與部件之間高度關聯(lián)，往往一個性能指標受很多因素的影響.
正是由于上述因素，使得光刻設備的研制具有高度復雜性.在研發(fā)時間短、經(jīng)驗缺乏、核心技術尚不成熟的條件下，產(chǎn)品研發(fā)存在著很高的風險，特別是技術風險.所以，在產(chǎn)品研發(fā)過程中必須加強對技術風險的分析和控制.
4.1風險管理小組
光刻設備研發(fā)項目組特設了風險管理小組，專門負責對產(chǎn)品系統(tǒng)以及產(chǎn)品研發(fā)過程系統(tǒng)技術風險進行分析和控制.風險管理領導小組構成.
4.2技術風險管理
根據(jù)上述復雜產(chǎn)品研發(fā)技術風險二維模型，光刻設備研發(fā)技術風險管理在產(chǎn)品技術風險維和研發(fā)過程技術風險維進行.
(1)產(chǎn)品技術風險管理
產(chǎn)品產(chǎn)生技術風險的因素是產(chǎn)品結構、零部件等.由于產(chǎn)品結構、零部件等存在缺陷，導致產(chǎn)品技術風險的產(chǎn)生，即產(chǎn)品不能滿足設計的功能要求.分析產(chǎn)品技術風險的路徑就是從客戶需求出發(fā)，分析產(chǎn)品的功能.如產(chǎn)品不能滿足功能性能等質(zhì)量要求，則產(chǎn)生技術風險事件.其風險因素可能是結構形式的問題，也可能是零部件的問題.分析過程.
(2)過程技術風險管理
光刻設備研發(fā)項目實施了標準的研發(fā)流程，并將研發(fā)流程固化在reamcenter Project軟件中.任何子系統(tǒng)研發(fā)流程基本類似，都有需求設計(定義)、概念設計(初步設計)、詳細設計(技術設計)、工藝設計和制造與驗收諸階段組成.
在研發(fā)過程的每個階段的重要活動，或階段與階段之間的交接活動(即里程碑)必須進行產(chǎn)品的技術風險管理.當各系統(tǒng)、子系統(tǒng)、零部件的設計由一個階段進入另一階段時，風險管理小組對設計階段的風險進行識別與評估，以決定研發(fā)是否進入下一階段或重新回到前面的某一活動.表1為概念設計階段結束后的工作臺掩模臺系統(tǒng)技術風險分析.
通過應用上述技術風險管理方法，不僅驗證了本文提出復雜產(chǎn)品研發(fā)技術風險管理的有效性，也對保證光刻機設備研發(fā)的成功具有重要的實用價值.
5結語
針對研發(fā)目標產(chǎn)品和研發(fā)過程的復雜性，提出了技術風險二維模型和技術風險管理體系結構，可應用于大型復雜產(chǎn)品的研發(fā)技術風險管理中.基于本文提出的技術風險管理體系結構，可進一步進行產(chǎn)品技術風險和過程技術風險的定量分析和風險控制。